XY-systeem (met vlakke spiegels)

Op deze paginaDownloadsBel uw plaatselijke kantoor Online contact met ons

Dual axis plane mirror application RLE systemen voor XY (vlakken) bestaan uit een dubbelassige RLU laser unit en twee detectorkoppen voor vlakke spiegels als optisch doel. De keuze van de laser unit hangt sterk af van de werkomgeving. Zo is de RLU20 zeer geschikt voor vacuüm en geconditioneerde omstandigheden. De RLU10 laser units worden gebruikt in RLE10 systemen; de RLU20 laser units in RLE20 systemen.

Specificaties

Dataformaat Digitaal - RS422 kwadratuur
Analoog - 1 Vpp sinus/cosinus
Resolutie Digitaal - naar keuze tot 10 nm (met vlakke spiegel als optisch doel)
Analoog - sub-nanometer via externe interpolatie (bv. met RPI20 parallelle interface)
Maximale snelheid 1 m/s (met vlakke spiegel als optisch doel)
Type laser HeNe (Helium-Neon), 632,8 nm NTP golflengte, klasse II
Stabiliteit laserfrequentie ±50 ppb (RLU10) over een periode van een uur
±2 ppb (RLU20) over een periode van een uur
Levensduur laser > 50.000 uur
Maximale aslengte 1 m (met vlakke spiegel als optisch doel)

Bij toepassingen buiten vacuüm is enige compensatie van de brekingsindex nodig om de nauwkeurigheid bij fluctuerende omgevingscondities op peil te houden. Renishaw levert het RCU10 systeem voor real-time kwadratuurcompensatie om deze variaties te compenseren.

Resoluties tot 38,6 picometer zijn te bereiken door in het RLE systeem een RPI20 parallelle interface op te nemen. Deze interface verwerkt differentiële analoge 1 Vpp sinus/cosinussignalen en levert uitgangssignalen in parallel formaat. Zie Toebehoren voor informatie over het RCU10 compensatiesysteem, de RPI20, andere hulpmiddelen voor de RLE systemen en de extra lange HS10 laserliniaal.

Volgende stap

Neem online contact met ons op als u meer informatie wenst of een prijsaanvraag wilt doen. U kunt ook rechtstreeks praten met uw plaatselijke Renishaw-leverancier.